エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第2報)

DOI
  • 梶原 優介
    東京大学 大学院工学系研究科 精密機械工学専攻
  • 稲月 友一
    東京大学 大学院工学系研究科 精密機械工学専攻
  • 高橋 哲
    東京大学 大学院工学系研究科 精密機械工学専攻
  • 高増 潔
    東京大学 大学院工学系研究科 精密機械工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Study on Nano-Stereolithography Using Evanescent Wave (second report) - Investigation of Lamination Method
  • 積層プロセスの検討

抄録

RP技術のひとつである光造形法は高分解能を実現できる点で大きく注目を浴びている.本研究は,より複雑な3次元微小構造の創成を目的として,近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,新しい微小構造創製法の確立を目指している.第1報では,エバネッセント光による高分解能リソグラフィ技術の実現可能性を示した.第2報では微細3次元造形法の確立へ向けて,サブミクロンオーダによる積層プロセスの検討を行う.

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680626374144
  • NII論文ID
    130004655839
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2004a.0.587.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
    • KAKEN
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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