Study on Nano-Stereolithography Using Evanescent Wave(third report) -Controlling the Intensity Distribution of Standing Evanescent Wave-

DOI

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Other Title
  • エバネッセント光を利用したナノ光造形法に関する研究(第3報)
  • 定在エバネッセント強度分布制御法の確立

Abstract

本研究では,高分解能制御が可能な近接場光(エバネッセント光)を露光エネルギとして利用し,高精度かつ設計自由度の高いナノ構造創製技術の確立を目指す.前報までに,定在エバネッセント波を利用することで高分解能な2次元光造形の可能性を示し,積層プロセスを検討することで,数百nmオーダの積層で3次元光造形の可能性を示した.本報では,自由度の高い設計を目指し,積層高さと定在エバネッセント波ピッチ幅の独立制御法の確立を目指す.

Journal

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282680626383360
  • NII Article ID
    130004655840
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2004a.0.588.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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