CMPスラリーろ過時のフィルター閉塞状況の検討
書誌事項
- タイトル別名
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- Study of filter fouling with CMP slurry filtration
説明
POUでのCMPスラリーろ過は、ウェハ表面上のスクラッチなどの欠陥低減に大きな効果がある。近年、半導体デバイスの微細化に伴い、欠陥とされるスクラッチサイズが微小化し、より細かいろ過精度のフィルターによるろ過が求められているが、細かいろ過精度のフィルターは分散粒子の捕捉、凝集による早期目詰まりが発生しやすい。本研究では実験的に閉塞を抑制する通液条件を探り、閉塞メカニズムを検討した。
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2009A (0), 299-300, 2009
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680628169216
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- NII論文ID
- 130004659077
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可