ゼロデュア基板上にイオンビームスパッタ付着したSi薄膜のイオンビームによる微少量加工
書誌事項
- タイトル別名
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- Ion beam nano-processing of Zerodur substrates coated with Si thin film
抄録
EUVL用非球面ミラー基板の最終形状修正には、イオンビーム加工が有力視されている。EUVLミラー基板として有力視されている低熱膨張ガラス(ゼロデュア)は絶縁物であるためイオンビーム加工時に基板表面が帯電することの他、加工後表面が荒れると言う問題がある。帯電と表面荒れを防ぐため、ゼロデュア基板表面にSiをイオンビームスパッタコートした後イオンビーム加工し加工形状を評価したので報告する。
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2007S (0), 247-248, 2007
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680630291456
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- NII論文ID
- 130005028410
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可