ゼロデュア基板上にイオンビームスパッタ付着したSi薄膜のイオンビームによる微少量加工

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タイトル別名
  • Ion beam nano-processing of Zerodur substrates coated with Si thin film

抄録

EUVL用非球面ミラー基板の最終形状修正には、イオンビーム加工が有力視されている。EUVLミラー基板として有力視されている低熱膨張ガラス(ゼロデュア)は絶縁物であるためイオンビーム加工時に基板表面が帯電することの他、加工後表面が荒れると言う問題がある。帯電と表面荒れを防ぐため、ゼロデュア基板表面にSiをイオンビームスパッタコートした後イオンビーム加工し加工形状を評価したので報告する。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680630291456
  • NII論文ID
    130005028410
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2007s.0.247.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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