Resist coating inside TSV in the fabrication process of 3D stack devices
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- Doi Toshiro
- Kyushu University
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- Ohtsubo Masanori
- Kyushu University
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- Kurokawa Syuhei
- Kyushu University
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- Ohnishi Osamu
- Kyushu University
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- Uneda Michio
- Kyushu University
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- Miyachi Keiji
- Asahi Sunac Corporation
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- Seike Yoshiyuki
- Asahi Sunac Corporation
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- Maruyama Kenji
- Tokyo Ohka kogyo CO., LTD.
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- Kotani Takuji
- Shin-Etsu Chemical Co.Ltd.
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- Ohashi Ken
- Shin-Etsu Chemical Co.Ltd.
Bibliographic Information
- Other Title
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- 3Dスタックデバイスの製造工程におけるTSV内レジスト成膜に関する研究
- - 2nd report: Measurements and applications using nano-imprinting of TSV patterns-
- 第2報:TSVパターンのナノインプリント転写による計測と応用
Abstract
本研究ではナノインプリント技術の計測法への応用として,TSVパターンの転写計測を試みた結果を述べる.
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2011A (0), 155-156, 2011
The Japan Society for Precision Engineering
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680632259200
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- NII Article ID
- 130004660078
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed