熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド合成におけるナノパルス援用効果

DOI
  • 永島 清成
    東京工業大学 理工学研究科 機械物理工学専攻
  • 望月 佳彦
    東京工業大学 理工学研究科 機械物理工学専攻
  • 大竹 尚登
    東京工業大学 理工学研究科 機械物理工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Effect of nano-pulse plasma in diamond synthesis using hot filament CVD

説明

ダイヤモンドは，物質中で最も高い硬度や優れた耐摩耗性を有している．その特徴から切削工具などへのダイヤモンド膜コーティングが試みられている．しかし膜の表面粗さが大きいことや膜の合成温度が高いことが実用上の課題となっている．これらの課題に対し，本研究では、一般的なダイヤモンド膜の合成ツールである熱フィラメントに加え，高圧極短パルス（ナノパルス）によるプラズマを援用し，その影響について調査を行った．

収録刊行物

関連プロジェクト

もっと見る

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680633282560
  • NII論文ID
    130004659770
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2010s.0.515.0
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
    • KAKEN
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ