スパッタ膜の膜質制御、高品質化へ向けたアプローチ

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タイトル別名
  • Approaches to control microstructures and improve properties of sputtered thin films

抄録

現代の産業において、スパッタリング法などの無機薄膜形成技術は欠かせない基盤技術となっており、その応用製品は多岐に渡る。これらに用いられる薄膜は、結晶の質を向上させることでより優れた特性を示すので、薄膜形成過程における結晶成長のコントロールが重要となる。本講演では特に、強磁場カソードを用いたAg膜の高品質化と、下地ZnO膜を用いた様々なセラミック膜の膜質制御について述べる。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680654654592
  • NII論文ID
    130005175562
  • DOI
    10.14886/sssj2008.36.0_211
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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