Basic study on System decontamination by Iodine heptafluoride

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Other Title
  • 七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究
  • (2) Formulate of potential model for deposition mechanism of Uranium compound
  • (2) ウラン化合物付着メカニズム解明のための分子間ポテンシャル評価

Description

七フッ化ヨウ素を用いた除染手法は、ウラン濃縮プラントや転換プラントのような、ウランフッ化物(代表的な化合物=六フッ化ウラン)を取り扱った施設の系統除染手法として知られている。本報告では、七フッ化ヨウ素を用いた系統除染のメカニズムを分子レベルで解明するための最初のステップとして、六フッ化ウランと金属(鉄)との物理吸着及び化学反応の可能性、六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)との物理吸着及び化学反応の可能性について検討を行うため、六フッ化ウランの分子間、六フッ化ウランと鉄、六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)間の分子間ポテンシャルを分子軌道法により評価し、このデータを基に、MD法により六フッ化ウランの付着メカニズムについて推定した結果を報告する。

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Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282680700861696
  • NII Article ID
    130007035195
  • DOI
    10.11561/aesj.2012s.0.655.0
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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