書誌事項
- タイトル別名
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- Radiative Cooling Characteristics of Functionally Graded Silicon Suboxide Films Prepared by Magnetron Sputtering
- マグネトロンスパッタリング法により作製した傾斜機能亜酸化ケイ素膜の放射冷却特性
- マグネトロンスパッタリングホウ ニ ヨリ サクセイ シタ ケイシャ キノウ アサンカ ケイソ マク ノ ホウシャ レイキャク トクセイ
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抄録
Silicon suboxide (SiOx) could be a potential material for radiative cooling due to appropriate infra-red absorption at wave-length (λ) between 8 and 13 μm. In this study, SiOx films ranging from x=0.98 to 1.7 were prepared by magnetron sputtering using a SiO sintered body target. An SiO0.98 single layer film had a relatively sharp absorption peak at λ=10 μm. The obtained SiO0.98 film showed amorphous and a black-brown color. An optical band gap (Eg) of the SiO0.98 film was 3.6 eV, and the SiOx (x>1.4) film was transparent in the UV-visible range with a wide optical band gap (>4 eV). A functionally graded SiOx layers showed broader absorption from λ=8 to 13 μm, promising for radiative cooling.
収録刊行物
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- 粉体および粉末冶金
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粉体および粉末冶金 52 (11), 851-856, 2005
一般社団法人 粉体粉末冶金協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282681285469184
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- NII論文ID
- 130000056256
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- NII書誌ID
- AN00222724
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- ISSN
- 18809014
- 05328799
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- NDL書誌ID
- 7734220
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
