特集　高融点金属シリサイドに関する最近の話題　チタン・シリサイドプロセスにおける構造相転移の問題について

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タイトル別名
  • Special Issue on Recent Progress in Transition-Metal Silicide Technology. C49-to-C54 Phase Transition in TiSi2 Process.

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LSI製造に用いられるシリサイドプロセスでは, 固相反応によりセルフアライン構造を形成できることが大きなメリットになっている。このセルフアライン構造にシリサイドを形成する方法はサリサイド (SALICIDE : Self-aligned silicide) 技術と呼ばれている。ここでは2段階熱処理法による, 一般的なチタンサリサイドの製造方法を説明し, さらにこのチタンシリサイドプロセスで発生する層抵抗増大の原因解析において, 構造相転移に着目したシリサイド物性研究の一端を解説する。

収録刊行物

  • 表面科学

    表面科学 16 (4), 233-237, 1995

    公益社団法人 日本表面科学会

参考文献 (24)*注記

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