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- Über die Bildung von der porenfreien Ferrasiliziumschicht
- コウ ノ ムコウシンケイソ ショリ ニ カンスル ケンキュウ
- Über die Bildung von der porenfreien Ferrasiliziumschicht
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抄録
Es ist wahrscheinlich, dass die Bildung der porigen Ferrosiliziumschicht auf dem Kirkendallischen Effekt d,h der ungleichmässigen Diffusionserscheinung zwischen Siliziumatom an der Oberflächenschicht und Eisenatom in der inneren Teil zurückzuführen ist. Bei der Silizierungsbehandlung über 1150°C, die von Dr. Fitzer “Sintersilizierung” genannt wurde, wird der Sintervorgang stark erfördert, so wird die Oberflächenschicht von Poren befreit. Je mehr die Zeitdauer für Silizierung verlängert wird umso mehr ist die ungleichmässige Diffusion beschleunigt und neue Porensäume werden in der Schutzschicht wiedergebildet. Wird die Silizierung bei höheren Temperatur und in kurzer Zeit deuchgeführt, so gewinnt man eine porenfreien Schicht. In diesem Fall spielt wahrscheinlich die Verdichtung durch Sinterung eine grösseren Rolle als der Kirkendallische Effekt durch Diffusion. Durch die Silizierung bei 1180°C, 20 Minuten ist es möglich, eine porenfreien Schutzschicht mit 0.3 mm von Dicke an der Oberfläche von Stahl mit 0.4%C zu erreichen.
収録刊行物
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- 日本金属学会誌
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日本金属学会誌 23 (5), 273-276, 1959
公益社団法人 日本金属学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282681458552704
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- NII論文ID
- 40018257428
- 130007333474
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- NII書誌ID
- AN00187860
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- ISSN
- 18806880
- 24337501
- 00214876
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- NDL書誌ID
- 9152868
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可