リソグラフィー技術の将来展望

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タイトル別名
  • Future prospects of lithography
  • リソグラフィー ギジュツ ノ ショウライ テンボウ

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抄録

<p>半導体集積回路の高集積化を支えてきた光リソグラフィー技術は，ナノメートルレベルの解像度を実現し，さらに微細化を狙っているが，解像限界も近づき，パターン設計側の負担も大きくなってきている．この限界を突破する，EUVリソグラフィー技術やナノインプリント技術など，新しい技術の開発も進んでいる．しかし課題も多く，実用化までの道程は険しいものがある．一方，光リソグラフィー技術の後も，光リソグラフィー技術を推そうという声も多く，高屈折率材料を用いた液浸露光や，多重露光技術など，さまざまな開発が進められている．これら次世代リソグラフィー技術の開発状況とその課題を紹介し，今後の動向を見通す．</p>

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 75 (11), 1328-1334, 2006-11-10

    公益社団法人 応用物理学会

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