スパッタリング法によるアモルファスFe-B合金薄膜の作製と透過型電子顕微鏡による構造解析

  • 仲村 龍介
    大阪府立大学大学院工学研究科マテリアル工学分野
  • 半谷 祐樹
    大阪府立大学大学院工学研究科マテリアル工学分野
  • 石丸 学
    九州工業大学大学院工学府物質工学専攻
  • 和田 武
    東北大学金属材料研究所

書誌事項

タイトル別名
  • Preparation of Amorphous Fe-B Films by Sputtering and Their Structure Analysed by Transmission Electron Microscopy
  • スパッタリングホウ ニ ヨル アモルファス Fe-B ゴウキン ハクマク ノ サクセイ ト トウカガタ デンシ ケンビキョウ ニ ヨル コウゾウ カイセキ

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抄録

<p>Amorphous Fe-B thin films of the concentration range between 12 and 25 at.% B were prepared by radio frequency sputtering techniques, and their local structures were examined by transmission electron microscopy. Pair-distribution-function analyses of Fe-12, -18 and -25 at.%B for a region of 300 nm in diameter revealed a systematic trend according to the concentration; with the increase in B concentration, the intensity of the weak shoulder peak at 0.205 nm for the Fe-B pair increases whereas those of main peaks for Fe-Fe pair decrease. In electron diffraction patterns of the samples taken by a probe size of 2 nm, the specific spots of iron-borides, such as Fe3B and Fe23B6, were detected, suggesting the atomic arrangement of the compounds in the amorphous matrices.</p>

収録刊行物

  • 鉄と鋼

    鉄と鋼 105 (10), 1017-1021, 2019

    一般社団法人 日本鉄鋼協会

参考文献 (27)*注記

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