溶融水酸化物法で成膜されたEuBa<sub>2</sub>Cu<sub>4</sub>O<sub>8</sub> 膜の熱分解による EuBa<sub>2</sub>Cu<sub>3</sub>O<sub>7–</sub><i><sub>δ</sub></i> 膜の低温形成プロセスの検討

DOI Web Site Web Site 参考文献3件 オープンアクセス
  • 宮地 優悟
    <sup> </sup>島根大学大学院総合理工学研究科 <sub>日本学術振興会（特別研究員</sub><sub>DC</sub><sub>）</sub><sub> </sub>
  • 舩木 修平
    <sup> </sup>島根大学大学院総合理工学研究科
  • 山田 容士
    <sup> </sup>島根大学大学院総合理工学研究科

書誌事項

タイトル別名
  • Processing Study of Low-temperature Fabrication of EuBa<sub>2</sub>Cu<sub>3</sub>O<sub>7−</sub><i><sub>δ</i> </sub>Film by Transformation from EuBa<sub>2</sub>Cu<sub>4</sub>O<sub>8</sub> Film Deposited Using the Molten Hydroxide Method
  • 溶融水酸化物法で成膜されたEuBa₂Cu₄O₈膜の熱分解によるEuBa₂Cu₃O[7-δ]膜の低温形成プロセスの検討
  • ヨウユウ スイサンカブツホウ デ セイマク サレタ EuBa ₂ Cu ₄ O ₈ マク ノ ネツ ブンカイ ニ ヨル EuBa ₂ Cu ₃ O[7-d]マク ノ テイオン ケイセイ プロセス ノ ケントウ

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抄録

<p>EuBa2Cu4O8 (Eu124) films were deposited on SrTiO3 (100) substrates using the molten hydroxide method and the eutectic composition of NaOH-KOH. The starting materials are a mixture of Eu2O3, BaO2 and CuO. The starting materials and SrTiO3 (100) substrates were put into molten NaOH-KOH at 475°C and kept for 12 h. After cooling in the furnace, substrates were extracted from solidified flux and washed using water and ethanol. The epitaxial Eu124 films obtained were heat-treated and decomposed at 550–825°C and P(O2)=2.0×10–1–1.0×10–5 atm in order to obtain the EuBa2Cu3O7−δ (Eu123) phase. Two-dimensionally aligned Eu123 film was formed on the SrTiO3 (001) substrate at 625°C using the decomposition process of Eu124 epitaxial film grown from molten hydroxide at 475°C. The transformation temperature from Eu124 to Eu123 decreased as the oxygen partial pressure during heat treatment decreased. Cu-rich particles and regions with a diameter of about a micron were precipitated on/in the Eu123 matrix of the decomposed film, and observed by SEM/EDS images. The films decomposed in P(O2)=10−4 atm at 625°C showed Tc=93 K by ρ-T measurement.</p>

収録刊行物

  • 低温工学

    低温工学 54 (3), 187-191, 2019-05-20

    公益社団法人 低温工学・超電導学会 (旧 社団法人 低温工学協会)

参考文献 (3)*注記

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