光反応性高分子膜へのレーザー走査とマスクレス蒸着に基づいた 微細Agパターン形成

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タイトル別名
  • Fine Ag pattern fabrication based on laser scanning on photoreactive polymer surfaces and maskless vacuum evaporation

抄録

<p>電子回路の高集積化には電極や配線の微細化が重要であるが、シャドウマスクによる金属蒸着法では微細化やパターン形成に制限があった。本研究では光反応に基づく金属蒸着選択性を用いたマスクレス蒸着による金属パターンの微細化を試みた。UV硬化性ポリジメチルシロキサンの膜表面をUVレーザーで走査し硬化部と未硬化部を形成、その後Agをマスクレス蒸着することで40μm幅の微細パターン形成に成功した。</p>

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390286981361973504
  • NII論文ID
    130007959316
  • DOI
    10.14886/jvss.2020.0_120
  • ISSN
    24348589
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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