銀をシード層としたセミアディティブ法による銅配線形成

説明

<p>導電性の銀層を電解めっきのシードとしたセミアディティブ法では、銀シード層を選択的に除去可能なエッチング剤を用いることにより、配線形状を維持した良好な回路パターン形成が可能である。</p>

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390290229666875904
  • NII論文ID
    130008121595
  • DOI
    10.11486/ejisso.33.0_11b2-03
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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