大気圧プラズマを用いた2段階プロセスによる透明基材用反射防止コーティング

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タイトル別名
  • Anti-reflective coating for transparent substrates by two-step atmospheric pressure plasma process

抄録

<p>我々は大気圧プラズマCVD法を用いたSiOx薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、透明基材用反射防止コーティングとして応用できるポーラスなSiOx薄膜の形成を行うため、HMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自の大気圧プラズマプロセスを提案した。今回は、本プロセスを用いて形成したSiOx反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。</p>

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390295259235372544
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2022a.0_225
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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