各種UV硬化性樹脂に対する低残膜ナノインプリント転写とその応用

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<p>ナノインプリントリソグラフィは微細なパターンを作製することができるが、UV硬化性樹脂のパターンと基板の間に残膜という余分な樹脂層が生じる。今回残膜の除去方法として、剥離によって余剰なUV硬化樹脂を取り除く液体分離方式インプリントリソグラフィ(LTIL)とロールプレスを組み合わせ使用した。そして、粘度が異なる2900から30000 mPa・sの高粘度UV硬化樹脂を用いて低残膜化を行った。</p>

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1390564227299660032
  • NII Article ID
    130007702667
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2019s.0_544
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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