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- 内田 建
- 慶應義塾大学 理工学部電子工学科
書誌事項
- タイトル別名
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- Carrier transport and thermal-aware device design of silicon nanoscale devices
- シリコンナノ コウゾウ デバイス ノ キャリヤ ユソウ トクセイ ト ネツ ハイリョ セッケイ
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説明
<p>ナノ構造シリコンをチャネル部とする立体構造トランジスタは,将来のデバイス構造として有望視されている.ナノ構造シリコンでは,電荷キャリヤへの量子効果が顕在化し,フォノン散乱の増大により熱伝導率も低くなる.そのため,量子効果やチャネル温度の上昇が,立体構造トランジスタの電気特性に及ぼす影響を考慮した素子設計が不可欠である.本稿では,はじめにナノ構造で顕在化する量子効果や界面/表面の効果などがトランジスタのキャリヤ輸送に及ぼす影響を概観する.その後,ジュール熱によるチャネル温度上昇の実験的評価,チャネル温度上昇が立体構造トランジスタのアナログ性能に及ぼす影響について,最近の進展を紹介する.</p>
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 83 (4), 262-267, 2014-04-10
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390564227309113344
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- NII論文ID
- 130007718508
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 025453598
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可