-
- 山﨑 博人
- 宇部工業高等専門学校 物質工学科
書誌事項
- タイトル別名
-
- Flexible Photoresist Material using Old and New Phenolic Resin
- 古くて新しいフェノール樹脂を用いた柔軟性をもつフォトレジスト材 : クレゾールノボラック樹脂編
- フルクテ アタラシイ フェノール ジュシ オ モチイタ ジュウナンセイ オ モツ フォトレジストザイ : クレゾールノボラック ジュシヘン
- ―Examination of Cresol Novolac Resin―
- ──クレゾールノボラック樹脂編──
この論文をさがす
抄録
<p>ポジ型フォトレジストから形成されるドライフィルムは,膜質が脆く柔軟性に欠けるため,それをロール状の製品とすることに難点がある。これを解消するため,柔軟性と高精度なリソグラフィ性能を有するクレゾールノボラック樹脂についてまとめる。クレゾールノボラック樹脂に,柔軟性を付与するための分子構造をイメージすると,ⅰ)自由連結鎖をもつアルデヒド成分の導入,ⅱ)側鎖構造をもつアルデヒド成分の導入,ⅲ)嵩高いアルデヒド成分の導入などが考えられる。具体的には,ⅰ)グリオキザール(アルキル鎖長(x)=0),スクシンアルデヒド(x=2),グルタルアルデヒド(x=3),あるいはアジポアルデヒド(x=4)などのアルキル鎖をもつジアルデヒドの導入,ⅱ)ブタナールなどの導入,そして,ⅲ)単糖から誘導された5- ヒドロキシメチルフルフラール(HMF)などの導入が挙げられる。これらの中で,剛直な複素環成分で嵩高い分子構造をもつHMF が,極めて高い柔軟性を示した。</p>
収録刊行物
-
- ネットワークポリマー論文集
-
ネットワークポリマー論文集 41 (2), 83-95, 2020-03-10
合成樹脂工業協会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390565134847175424
-
- NII論文ID
- 130007830825
-
- NII書誌ID
- AA1281058X
-
- ISSN
- 24342149
- 24333786
-
- NDL書誌ID
- 030339185
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可