分子線エピタキシー法による高品質ヨウ化銅薄膜の作製
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- 稲垣 宗太朗
- 東大院工
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- 中村 優男
- 理研CEMS JST さきがけ
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- 相澤 直矢
- 理研CEMS JST さきがけ
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- Peng Licong
- 理研CEMS
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- Yu Xiuzhen
- 理研CEMS
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- 十倉 好紀
- 東大院工 理研CEMS 東京カレッジ
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- 川﨑 雅司
- 東大院工 理研CEMS
書誌事項
- タイトル別名
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- Growth of high-quality CuI thin films by molecular beam epitaxy
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.2 (0), 1005-1005, 2020-08-26
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390573407617577728
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- ISSN
- 24367613
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC