スパッタ法によるSi基板上へのBiFeO<sub>3</sub>薄膜のエピタキシャル成長Ⅲ

DOI

菊地理沙

阪府大工
岡本直樹

阪府大工
吉村武

阪府大工
藤村紀文

阪府大工

書誌事項

タイトル別名

Epitaxial growth of BiFeO<sub>3</sub> films on Si substrates by sputtering method Ⅲ

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 (0), 1219-1219, 2020-02-28

公益社団法人応用物理学会

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詳細情報詳細情報について

CRID

1390573715167688960
DOI

10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_1219
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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