Development of scanning near-field Mueller matrix polarimetry microscope

DOI

Bibliographic Information

Other Title
  • 近接場ミュラー偏光顕微鏡の開発

Abstract

<p>近接場光学顕微鏡は，ナノ領域における物性の光学的評価に欠かせない重要なツールとして幅広く用いられている．これまでに，試料の複屈折分布をイメージングに成功している．しかしながら，偏光特性には複屈折以外にも複吸収や偏光解消など様々なものがあり，これらを光の回折限界を超えた分解能での同時取得が必要となる．そこで本研究では近接場ミュラー偏光顕微鏡を開発し，ナノ領域における偏光特性のイメージングを行った．</p>

Journal

Keywords

Details 詳細情報について

Report a problem

Back to top