酸素クラスターイオンビーム援用蒸着法により作製したSiO<sub>x</sub>薄膜の表面分析

DOI

福島大貴

京大光・電子理工セ
Jin Xin

京大光・電子理工セ
龍頭啓充

京大光・電子理工セ
竹内光明

京大光・電子理工セ
高岡義寛

京大光・電子理工セ

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2011.1 (0), 1750-1750, 2011-03-09

公益社団法人応用物理学会

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詳細情報詳細情報について

CRID

1390580250920432256
DOI

10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_1750
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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