室温原子層堆積法とその応用

DOI Web Site

書誌事項

タイトル別名
  • Room-temperature atomic layer deposition and its application
  • シツオン ゲンシソウ タイセキホウ ト ソノ オウヨウ

この論文をさがす

抄録

<p>原子層堆積法（ALD）の室温化研究について紹介する．ALDの室温化を阻む要因を探るため，有機金属ガスの酸化物表面への吸着のその場観察を試みた．多くの有機金属ガスは，表面のヒドロキシル基を吸着サイトとすることで，室温で吸着する．吸着表面を酸化しながら，ヒドロキシル基を表面に形成する方法として，加湿アルゴン（Ar）をプラズマ励起したガスを酸化剤とすることで，室温堆積を実証した．本プロセスは，室温製膜に加え，3次元形状に陰ひなたなく均一に製膜できる．本稿では，シリカ，アルミナの室温ALD事例を紹介するとともに，その応用として，防触，PETボトルコート，ガスバリヤについて説明する．</p>

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 86 (9), 796-800, 2017-09-10

    公益社団法人 応用物理学会

関連プロジェクト

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ