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- 友澤 稔
- レンセラー工科大学 材料科学および材料工学科
書誌事項
- タイトル別名
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- Silica glass surface structural change and water diffusion
- シリカ ガラス ヒョウメン ノ コウゾウ ヘンカ ト ミズ ノ カクサン
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抄録
<p>シリカガラスは,電子材料としても光学材料としても重要な物質である.ガラスの性質は一般に,冷却速度によって変化する.組成が同じで構造および性質の異なるガラス試料を区別するため,融液がガラスに変化したと考えられる温度として,ガラスの仮想温度という概念が使われる.シリカガラスの仮想温度は赤外分光計を使って簡単に測定でき,その一定温度での経時変化からガラスの構造緩和速度を決めることができる.これらの測定から,シリカガラス表面層の構造緩和速度は,ガラス内部の構造緩和速度に比べて速いことがわかった.この現象のため,シリカガラスの表面や薄膜,ファイバーや微粒子などは,同じ熱処理後でもバルクのシリカガラスとは異なった性質をもつ場合がある.</p>
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 76 (7), 780-784, 2007-07-10
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390845702285676032
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- NII論文ID
- 10019516816
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 8882927
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可