-
- 畠山 力三
- 東北大
-
- 節原 裕一
- 阪大
-
- 大岩 徳久
- 東芝
-
- 関根 誠
- 名大
-
- 豊田 浩孝
- 名大
-
- 中石 雅文
- 富士通
-
- 中村 敏浩
- 京大
-
- 中川 秀夫
- パナソニック
-
- 永津 雅章
- 静大
-
- 中村 圭二
- 中部大
-
- 檜森 慎司
- 東京エレクトロン
-
- 小田 昭紀
- 名工大
-
- 林 信哉
- 佐賀大
-
- 明石 治朗
- 防衛大
-
- 菅原 広剛
- 北大
-
- 吉村 智
- 阪大
-
- 平田 孝道
- 都市大
-
- 一木 隆範
- 東大
-
- 野崎 智洋
- 東工大
-
- 佐野 紀彰
- 京大
-
- 木下 啓蔵
- NEC
-
- 白井 肇
- 埼玉大
-
- 古閑 一憲
- 九大
-
- 土澤 泰
- NTT
-
- 神谷 利夫
- 東工大
-
- 白藤 立
- 名大
-
- 辰巳 哲也
- ソニー
-
- 米倉 和賢
- ルネサス
-
- 森川 康宏
- アルバック
-
- 根岸 伸幸
- 日立
-
- 高橋 和生
- 京都工芸繊維大
-
- 秋元 健司
- NEC
-
- 江利口 浩二
- 京大
-
- 太田 貴之
- 和歌山大
-
- 奥村 智洋
- パナソニック
-
- 上坂 裕之
- 名大
-
- 佐藤 孝紀
- 室蘭工大
-
- 布村 正太
- 産総研
-
- 長谷川 明広
- 富士通
-
- 柳生 義人
- 佐世保高専
-
- 白谷 正治
- 九大
-
- 金子 俊郎
- 東北大
-
- 大竹 浩人
- 東北大
書誌事項
- タイトル別名
-
- Plasma and process technologies
- プラズマ プロセス ギジュツ
この論文をさがす
抄録
<p>プラズマ・プロセス技術クラスターでは，将来的に社会の根幹を支え続けるデバイスを作製プロセスの観点から三つに分類した．それらは，直近のエレクトロニクスデバイス，その先の分子レベルデバイス，究極の原子レベルデバイスである．これらのデバイスの作製プロセスの実現に必要な研究課題をトップダウンプロセス，ボトムアッププロセス，および共通基盤技術に分けて概説した．</p>
収録刊行物
-
- 応用物理
-
応用物理 79 (8), 717-719, 2010-08-10
公益社団法人 応用物理学会
- Tweet
キーワード
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390845702290798336
-
- NII論文ID
- 10026494758
-
- NII書誌ID
- AN00026679
-
- ISSN
- 21882290
- 03698009
-
- NDL書誌ID
- 10799987
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可