Preparation of WO3 reduction coloring thin film using a combination sputtering method with radio-frequency oxygen plasma irradiation
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- Shoji FUKUDOME
- Miyakonojo National College of Techonology(Present Honda Lock Mfg.Co.,Ltd.)
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- Megumi SHIMONIHARA
- Miyakonojo National College of Techonology(Present Honda Lock Mfg.Co.,Ltd.)
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- Fumihiro SEI
- Honda Lock Mfg.co.,Ltd.
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- Yoshihiko KAWANO
- Honda Lock Mfg.co.,Ltd.
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- Daisuke NOGUCHI
- Miyakonojo National College of Techonology
Bibliographic Information
- Other Title
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- RF酸素プラズマ照射を特長とした併用式スパッタ法によるWO3還元発色薄膜の作製
- RF サンソ プラズマ ショウシャ オ トクチョウ ト シタ ヘイヨウシキ スパッタホウ ニ ヨル WO ₃ カンゲン ハッショク ハクマク ノ サクセイ
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Journal
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- Research Report of Miyakonojo National College of Technology
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Research Report of Miyakonojo National College of Technology 46 (0), 13-22, 2012
National Institute of Technology, Miyakonojo College
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390846609820446976
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- NII Article ID
- 110008895945
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- NII Book ID
- AN00235996
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- ISSN
- 0286116X
- 24321036
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- NDL BIB ID
- 023557452
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
