ビスフェノールC を用いたノボラック樹脂の合成と性質：

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タイトル別名
  • Synthesis and Properties of Bisphenol C Type Novolac Resin:
  • ビスフェノールCを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発
  • ビスフェノール C オ モチイタ ノボラック ジュシ ノ ゴウセイ ト セイシツ : ビスフェノールルイ ニ チャクガン シタ ジュウナンセイ オ モツ フォトレジストザイ ノ カイハツ
  • Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol Unit
  • ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発

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抄録

<p>ポジ型フォトレジスト材を用いたドライフィルムを作製できるようになれば，新たなニーズの展開が期待できる。著者らは柔軟性をもつレジスト用ノボラック樹脂の開発を試みる中で，フェノール（PhOH）成分として分子鎖骨格に嵩高いイソプロピリデン基をもつビスフェノールA（BisA）とグルタルアルデヒド（Glu）を組み合わせたBisA/Glu ノボラック樹脂は，描画能は劣るものの，クレゾール（Cre）型ノボラック樹脂に比べ，遙かに高い柔軟性を発現することを見出した。本稿ではBisA/Glu ノボラック樹脂の描画能を改善するため，PhOH 成分にはビスフェノールC（BisC），あるいはBisA とBisC の50：50（wt/wt）混合物［BisA/C］を，架橋剤にはGlu，あるいはホルムアルデヒド（Form）からなる，BisC/Glu，［BisA/C］/Glu そしてBisC/Form ノボラック樹脂をそれぞれ合成し，その性質を検討した。BisC 型ノボラック樹脂は，PhOH 成分とアルデヒド類の組合せにかかわらず，アルデヒド成分割合の増加によってMw が増加し，これに伴いアルカリ水溶解速度（DR）は遅くなった。また，PhOH 成分にはBisA を，アルデヒド類にはGlu を含んだノボラック樹脂の方が，よりMw は増加した。得られたノボラック樹脂の中から，Mw ≧1200，DR ≦1100 Å/sec の条件を満足するものを選別し，シリコンウェハ上に樹脂膜厚1.5 μm となる様に塗布し，レジストパターンを作製して描画性能を評価した。 BisC/Glu とBisC/Form ノボラック樹脂は，高い描画能（パターンニング：4.0 μm 以下，残膜率：90％以上）を発揮し，BisA/Glu ノボラック樹脂の描画能を改善できた。両ノボラック樹脂は高い柔軟性を発現したが，特にBisC/Glu ノボラック樹脂はBisA/Glu ノボラック樹脂と同程度の極めて高い柔軟性を発現することを，折り曲げ試験より確認した。</p>

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