Si直上Y:HfO<sub>2</sub>エピタキシャル薄膜の界面誘電特性

DOI

佐保勇樹

阪府大工
宝栄周弥

阪府大工
高田賢志

阪府大工
吉村武

阪府大工
藤村紀文

阪府大工

書誌事項

タイトル別名

Interfacial dielectric properties of Y:HfO<sub>2</sub> epitaxial thin films directly on Si substrate

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.2 (0), 896-896, 2020-08-26

公益社団法人応用物理学会

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詳細情報詳細情報について

CRID

1390854882594769280
DOI

10.11470/jsapmeeting.2020.2.0_896
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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