PSD法により形成した高濃度n型ドープGaN薄膜の特性評価
書誌事項
- タイトル別名
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- Characterization of highly n-type GaN prepared by pulsed sputtering
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.1 (0), 3578-3578, 2018-03-05
公益社団法人 応用物理学会