Presence of Amorphous Layer on Fracture Surface of Polycrystalline MgSiO<sub>3</sub> Bridgmanite

DOI
  • Nishiyama Norimasa
    Deutsches Elektronen-Synchrotron (DESY) Tokyo Institute of Technology Sumitomo Electric Industries, Ltd.
  • Kulik Eleonora
    Deutsches Elektronen-Synchrotron (DESY)

Bibliographic Information

Other Title
  • MgSiO<sub>3</sub> ブリッジマナイト多結晶体破断面におけるアモルファス層の存在と応力誘起相変態による高靭化

Abstract

MgSiO3 組成の高圧相であるブリッジマナイト多結体の破断面のＸ線回折測定およびラマン分光法による評価を実施した。その結果、軟Ｘ線吸収分光測定によって検出された破断面に存在するシリコン4配位相が、MgSiO3 アモルファスであることが明らかとなった。さらに、マイクロカンチレバー試験片を用いた破壊試験を実施した結果、亀裂進展抵抗が亀裂進展とともに増加する現象を観察した。このことは、この物質が応力誘起相変態（ブリッジマナイトから MgSiO3 アモルファス）によって高靭化している可能性がある。

Journal

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390862268805702656
  • DOI
    10.18957/rr.12.1.8
  • ISSN
    21876886
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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