銅基板上へのトリアジン-チオール系分子薄膜形成過程の解明
書誌事項
- タイトル別名
-
- Elucidation of the triazine-thiol self-assembled monolayer formation process on copper surface
説明
<p>6-triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2,4-ditiol (TES)は金属に結合できるチオール基と樹脂に結合できる官能基(Siに結合する3つのエトキシ基)を併せ持つ。金属、樹脂表面に自己組織化膜を形成し、表面改質をすることが期待される。本研究では、XPS測定により銅基板上に形成したTES分子薄膜による基板表面改質や膜形成過程の解明に取り組んだ。</p>
収録刊行物
-
- 日本表面真空学会学術講演会要旨集
-
日本表面真空学会学術講演会要旨集 2020 (0), 45-, 2020
公益社団法人 日本表面真空学会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1391694356245651456
-
- NII論文ID
- 130007959523
-
- ISSN
- 24348589
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可