ジメチルスルフィド分解用NiO/γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動—

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タイトル別名
  • Local Structure Analysis of Active Sites in NiO/γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Catalyst for Dimethyl Sulfide Decomposition: Sulfurization Behavior of Ni Species Using X-ray Absorption Spectroscopy Analysis
  • Local Structure Analysis of Active Sites in NiO/γ-Al₂O₃ Catalyst for Dimethyl Sulfide Decomposition : Sulfurization Behavior of Ni Species Using X-ray Absorption Spectroscopy Analysis

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抄録

<p>含浸法により調製したNiO/γ-Al2O3触媒を用いたジメチルスルフィド（以下DMS）の分解反応プロセスにおけるNi種の微細構造変化の検討を行った。調製触媒の焼成および硫化条件が触媒性能に影響を及ぼした。反応前に行う硫化処理として，H2Sで硫化した場合の方がDMSで硫化した場合と比較して分解性能が高くなった。XRD，XPS分析から活性点はNiSであることが類推された。さらに，硫化処理前後のNi種の微細構造変化をin-situ XASにより分析した結果，500 ℃焼成触媒ではNi種がNiOとNiAl2O4として約4 : 6の比で存在しており，硫化処理によって主にNiOがNiSへと硫化され，DMS分解反応の活性点となることが明らかとなった。一方，800 ℃焼成触媒ではNi種がほぼすべてNiAl2O4として存在していた。そのため，硫化後に活性点であるNiS成分の生成量は少なく，800 ℃焼成触媒のDMS分解性能は低かった。</p>

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