書誌事項
- タイトル別名
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- Application of Bayesian optimization for experimental conditions of film deposition
- エンジニアの知識と機械学習の融合 : シリコンエピタキシャル成長プロセスへのベイズ最適化応用
- エンジニア ノ チシキ ト キカイ ガクシュウ ノ ユウゴウ : シリコンエピタキシャル セイチョウ プロセス エ ノ ベイズ サイテキカ オウヨウ
- シリコンエピタキシャル成長プロセスへのベイズ最適化応用
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説明
<p>逐次最適化のための機械学習法であるベイズ最適化は，探索と活用をバランスよく行う最適化手法として，広く応用されている．本稿では，はじめにベイズ最適化の概要を解説したあと，実際の実験へのベイズ最適化の応用として，シリコンエピタキシャル膜の成長条件の最適化への適用を紹介する．特に，エンジニアがもつ専門知識や経験の活用を中心に説明する．</p>
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 89 (12), 711-714, 2020-12-10
公益社団法人 応用物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1391975831218522368
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- NII論文ID
- 130007952790
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 030809708
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可