書誌事項
- タイトル別名
-
- シンクウ チュウ デ ノ ネツ ショリ ニ ヨル Pt NiO Pt テイコウ ヘンカ ソシ ノ デンキテキ トクセイ ヘンカ
- Effects of thermal treatment in vacuum on the electrical characteristics of Pt/NiO/Pt stack structures for ReRAM
- シリコン材料・デバイス
- シリコン ザイリョウ デバイス
この論文をさがす
収録刊行物
-
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
-
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 110 (351), 45-49, 2010-12-17
東京 : 電子情報通信学会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520009407131681152
-
- NII論文ID
- 110008676027
-
- NII書誌ID
- AA1123312X
-
- ISSN
- 09135685
-
- NDL書誌ID
- 10938312
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles