RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成
Bibliographic Information
- Other Title
-
- RF マグネトロン スパッタリングホウ ニ ヨル LiMn2O4 ハクマク ノ セイセイ
- Preparation of LiMnO4 films by RF magnetron sputtering
- 電子デバイス
- デンシ デバイス
Search this article
Journal
-
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
-
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108 (34), 7-10, 2008-05
東京 : 電子情報通信学会
- Tweet
Keywords
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1520009407415915776
-
- NII Article ID
- 110006862276
- 110006862181
- 110006862160
-
- NII Book ID
- AA1123312X
-
- ISSN
- 09135685
-
- Text Lang
- ja
-
- NDL Source Classification
-
- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
-
- Data Source
-
- NDL
- CiNii Articles