プラズマ酸化とプラズマ窒化を用いた低消費電力CMOSデバイス向けHfSiONゲート絶縁膜の形成

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  • プラズマ サンカ ト プラズマ チッカ オ モチイタ テイショウヒ デンリョク CMOS デバイス ムケ HfSiON ゲート ゼツエン マク ノ ケイセイ

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