Control of Cl2 Plasma by Electron-Beam-Excited Plasma and Poly-Si Etching
書誌事項
- タイトル別名
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- Control of Cl2 Plasma by Electron Beam
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説明
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
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- 総合工学 / 中部大学総合工学研究所 編
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総合工学 / 中部大学総合工学研究所 編 (8), 59-63, 1996
春日井 : 中部大学総合工学研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009408168918656
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- NII論文ID
- 40004809621
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- NII書誌ID
- AN10066396
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- ISSN
- 09153292
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- NDL書誌ID
- 4138350
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- CiNii Articles