Influence of crystallization thermal treatment on hysteresis loops and leakage current of PZT films grown by low temperature metal-organic chemical vapor deposition
書誌事項
- タイトル別名
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- Influence of crystallization thermal treatment on hysteresis loops and leakage current of PZT films grown by low temperature metal organic chemical vapor deposition
- 有機金属低温化学蒸着によって成長させたPZT薄膜のヒステリシス曲線と漏洩電流に与える結晶化処理温度の影響
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収録刊行物
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- 材料技術 = Material technology
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材料技術 = Material technology 28 (3), 91-96, 2010
[東京] : 材料技術研究協会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009408269172992
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- NII論文ID
- 40017222929
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- NII書誌ID
- AN1005644X
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- ISSN
- 02897709
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- NDL書誌ID
- 10775083
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM16(科学技術--科学技術一般--工業材料・材料試験)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles