Initial Growth Process of TiN Films in Ultrahigh-Vacuum Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
書誌事項
- タイトル別名
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- Initial Growth Process of TiN Films in Ultrahigh Vacuum Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
- 公開日
- 2006-01
- DOI
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- 10.1143/jjap.45.49
- 公開者
- Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
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説明
資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
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- Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
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Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 45 (1A), 49-53, 2006-01
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009408311559296
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- NII論文ID
- 40007102772
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- NII書誌ID
- AA10457675
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- ISSN
- 00214922
- 13474065
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- NDL書誌ID
- 7790631
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
- OpenAIRE
