直接窒化膜を界面制御層に用いたSiC MIS構造の作製
Bibliographic Information
- Other Title
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- チョクセツ チッカ マク オ カイメン セイギョソウ ニ モチイタ SiC MIS コウゾウ ノ サクセイ
- Fabrication of SiC MIS structure using direct nitridation layer as an interfacial layer
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ザイリョウ
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 109 (171), 9-12, 2009-08
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520009408373588352
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- NII Article ID
- 110007359258
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 10350060
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles