Si基板上におけるFe3Si薄膜のエピタキシャル成長と評価

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1520009408709944192

• NII論文ID

  110003311340

  10015723880

  110003205187

  110003301562

• NII書誌ID

  AA1123312X

• ISSN

  09135685

• NDL書誌ID

  7357891

  7357992

  7358060

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/7357891

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7357891

  http://id.ndl.go.jp/bib/7357992

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7357992

  http://id.ndl.go.jp/bib/7358060

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7358060

• 本文言語コード

  ja

• NDL 雑誌分類

  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)

• データソース種別

  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN