ポリチオフェン複合膜によるFET特性--半導体層のフラーレン含有によるFET性能の変化

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• CRID

  1520009408796397184

• NII論文ID

  10015723842

  110003205183

  110003311336

  110003301558

• NII書誌ID

  AA1123312X

• ISSN

  09135685

• NDL書誌ID

  7358030

  7357954

  7357802

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/7358030

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7358030

  http://id.ndl.go.jp/bib/7357954

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7357954

  http://id.ndl.go.jp/bib/7357802

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7357802

• 本文言語コード

  ja

• NDL 雑誌分類

  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)

• データソース種別

  • NDL
  • CiNii Articles