化学気相堆積した窒化ホウ素炭素膜の形成条件の検討
書誌事項
- タイトル別名
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- カガク キソウ タイセキ シタ チッカ ホウソ タンソマク ノ ケイセイ ジョウケン ノ ケントウ
- Investigation of formation conditions for boron carbon nitride film by chemical vapor deposition
- 電子部品・材料
- デンシ ブヒン ・ ザイリョウ
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収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117 (268), 1-4, 2017-10
東京 : 電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009409290347776
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- NII論文ID
- 40021373363
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- NII書誌ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL書誌ID
- 028638766
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles