熱CVD法によるInP基板上へのSiNx膜形成
書誌事項
- タイトル別名
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- ネツ CVDホウ ニ ヨル InP キバンジョウ エ ノ SiNx マク ケイ
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抄録
記事分類: 電気工学--電子工学--電子部品--固体素子
収録刊行物
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- 明治大学科学技術研究所紀要 = Memoirs of the Institute of Science and Technology, Meiji University
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明治大学科学技術研究所紀要 = Memoirs of the Institute of Science and Technology, Meiji University 29 (3), p15-31, 1990
川崎 : 明治大学科学技術研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520009410154972672
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- NII論文ID
- 110004643148
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- NII書誌ID
- AN00238586
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- ISSN
- 03864944
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- NDL書誌ID
- 3808920
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles