塗布光照射法によるナノエピタキシャル酸化物膜の作製と応用
書誌事項
- タイトル別名
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- トフ ヒカリ ショウシャホウ ニ ヨル ナノエピタキシャル サンカブツマク ノ サクセイ ト オウヨウ
- Preparation of Nano-Epitaxial Oxide Film by Photo assisted-MOD and its Application
- 特集 ナノ構造セラミックス
- トクシュウ ナノ コウゾウ セラミックス
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収録刊行物
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- マテリアルインテグレーション = Materials integration
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マテリアルインテグレーション = Materials integration 25 (3), 57-63, 2012-03
京都 : ティー・アイ・シィー
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520010380143395072
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- NII論文ID
- 40019295683
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- NII書誌ID
- AA11323801
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- ISSN
- 13447858
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- NDL書誌ID
- 023687875
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles