Raman spectroscopic stress evaluation of femtosecond-laser-modified region inside 4H-SiC
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- Raman spectroscopic stress evaluation of femtosecond laser modified region inside 4H SiC
- 4H-SiC内部のフェムト秒レーザー改質部におけるラマン分光学的応力評価
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技研所報 46 (3), 92-94, 2010-07
東久留米 : 機械振興協会技術研究所
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520010380252368384
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- NII Article ID
- 40017233518
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- NII Book ID
- AN00050899
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- ISSN
- 0289243X
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- NDL BIB ID
- 10778207
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- Text Lang
- en
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- NDL Source Classification
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- ZM5(科学技術--科学技術一般--工学・工業)
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- Data Source
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