Growth of Hydrogenated Amorphous Silicon Germanium (a-SiGe:H) Thin Films by Hot Wire PECVD for Solar Cells Application
この論文をさがす
収録刊行物
-
- 旭硝子財団助成研究成果報告 = Reports of research assisted by the Asahi Glass Foundation
-
旭硝子財団助成研究成果報告 = Reports of research assisted by the Asahi Glass Foundation 1-7, 2007
東京 : 旭硝子財団
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520010380774110080
-
- NII論文ID
- 40019977599
-
- NII書誌ID
- AA12084182
-
- ISSN
- 18820069
- 09199179
-
- NDL書誌ID
- 025249847
-
- 本文言語コード
- en
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZP1(科学技術--化学・化学工業)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles