次世代リソグラフィ用レジスト材料の設計指針

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書誌事項

タイトル別名
  • ジセダイ リソグラフィヨウ レジスト ザイリョウ ノ セッケイ シシン
  • Resist material design for next-generation lithography
  • 特集 未来社会を支える技術戦略
  • トクシュウ ミライ シャカイ オ ササエル ギジュツ センリャク

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収録刊行物

  • 化學工業

    化學工業 61 (8), 577-582, 2010-08

    東京 : 小峰工業出版

被引用文献 (1)*注記

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